光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

光氧廢氣處理設備氣體分子被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。 光氧廢氣處理設備 特點：① 采用單級或多級串聯洗滌，對污染物去除徹底，去除效率高。② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優勢，運行穩定。③ 具有啟動速度快、可間歇運行、耐沖擊負荷強、受溫度影響小、運行穩定等特點。④ 自動化程度高，占地面積小,化學洗滌除臭設備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理。活性炭除臭設備采取切線出風、環狀過濾、中間進風、上不加料、下部卸料的結構，克服了傳統的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設備投資高、更換活性炭困難等缺陷，使活性炭過濾設備結構設計近乎于完美。